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气相沉积炉的相关知识点介绍

2022-10-11 08:45:26

CVD气相沉积炉是Chemical Vapor Deposition的简称,是指高温下的气相反应,例如,金属卤化物、有机金属、碳氢化合物等的热分解,氢还原或使它的混合气体在高温下发生化学反应以析出金属、氧化物、碳化物等无机材料的方法。

这种技术Z初是作为涂层的手段而开发的,但目前,不只应用于耐热物质的涂层,而且应用于高纯度金属的精制、粉末合成、半导体薄膜等,是一个颇具特征的技术领域。

气相沉积炉这种技术刚开始发展时是作为涂层的手段而开发的,但是目前随着发展已经不只是应用于耐热物质的涂层了,现在应该已经应用于高纯度金属的精制、粉末合成、半导体薄膜等,是一个还比较广泛的领域。

气相沉积炉的相关知识点介绍

气相沉积炉反应室的压力、气体的流动速率、晶片的温度等反应中间起的作用都是沉积参数的变化范围,所以考虑到沉积薄膜中的变数、以及沉积速率决定着反应室的产出量,反应生成的膜不仅会沉积在晶片上,也会沉积在反应室的其他部件上,所以对反应室进行彻底清洗的程度也是重要。

气相沉积炉是传统的制备薄膜的技术,它的原理就是利用气态的先驱反应物,通过原子、分子间的化学反应,在晶片上形成薄膜。气相沉积能够生产出具备高质量高纯度以及高强度等优点的材料,因此在半导体行业很受欢迎。

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